ITO的原子與晶粒排布（電子掃描）

        在絕大多數(shù)的場合中，化學(xué)蝕刻法是ITO圖形制備最成熟和可行的技術(shù)，它可以根據(jù)你的需要，生成目前足夠精細的圖案和相對比較少的前期投資。隨著深紫外線技術(shù)在曝光設(shè)備上的應(yīng)用，微米的精度，早已被大多數(shù)廠家所實現(xiàn)。它具有高效率、批次穩(wěn)定性和重復(fù)性好、設(shè)備投資額低、配套技術(shù)完善等諸多優(yōu)點，目前仍是大規(guī)模生產(chǎn)的主要方向，使用的原料有蝕刻膏、抗蝕油墨、光刻膠三種。

       1、蝕刻膏工藝

       化學(xué)蝕刻法有以下幾種方式實現(xiàn)：一種是直接在產(chǎn)品電極圖形區(qū)域外印制蝕刻膏，等反應(yīng)完全后，用蝕刻膏溶劑，一般是水清洗干凈，留下所需的電極圖形。這種方式對于一些線寬和線距要求在0.2mm以上的光電產(chǎn)品如低檔TN顯示器、電阻式觸摸屏、按鍵式電容屏、光伏電池等，因為不用耗費大量的化學(xué)物品，對環(huán)境污染影響更小，節(jié)省大量水、電費、場地費用，前期投資費用低廉，一般的絲印行業(yè)就可以掌握大部分技術(shù)等因素，有日趨發(fā)展的勢頭。它主要的控制點就在于溫度對于蝕刻速度的控制，設(shè)計時要充分考慮邊緣效應(yīng)這兩點上，一般可以用比較簡單的工場實地實驗，就可以得到比較準備的參數(shù)。

       2、抗蝕油墨工藝

       化學(xué)蝕刻法第二種方法，剛好與第一種相反，它是在產(chǎn)品電極圖形區(qū)域內(nèi)印制是阻蝕油墨保護起來，然后把產(chǎn)品浸入化學(xué)蝕刻液中，讓產(chǎn)品電極圖形區(qū)域外部分與化學(xué)蝕刻液完全反應(yīng)后，再把阻蝕油墨從產(chǎn)品電極圖形表面剝離下來，形成產(chǎn)品電極圖形。它的線寬和線距做到0.08mm，仍可以達到95%以上的蝕刻良率。這種方法在PCB線路板、薄膜開關(guān)、電阻式觸摸屏、光伏電池等產(chǎn)品生產(chǎn)上，目前占據(jù)主流的地位。

       按照最后剝離去的方式不同，阻蝕油墨分為物理剝離型和化學(xué)溶液剝離型。其中物理剝離型阻蝕油墨，除了用在電子產(chǎn)品圖形制備生產(chǎn)中，更多的是用在產(chǎn)品表面防護上，以阻止外力損傷產(chǎn)品，隔絕外面環(huán)境中的水、電、氣，防止它們腐蝕產(chǎn)品。其中在電子行業(yè)里應(yīng)用最多的就是電路板絕緣保護膠，和觸摸屏生產(chǎn)中的表面保護膠。由于物理剝離型阻蝕油墨，如果在產(chǎn)品轉(zhuǎn)序過程中，需要去除的話，是使用物理外力撕下剝離的，所以一般它的絲印厚度要求在化學(xué)溶液剝離型阻蝕油墨的絲印厚度的二到三倍以上，并且在固化程度上，不能象化學(xué)溶液剝離型阻蝕油墨一樣，只要達到表面固化即可，也要求一定要完全固化，這樣在生產(chǎn)的后續(xù)加工過程中，邊緣部分不會因為擠壓而變形破裂，在需要移除的時候，產(chǎn)生邊緣殘留。在觸摸屏的生產(chǎn)過程中，表面保護膠的邊緣殘留，是影響產(chǎn)品生產(chǎn)效率和品質(zhì)良品率的主要因素之一。

       化學(xué)溶液剝離型阻蝕油墨，按最后剝離時的方式不同，也分為一種是溶解型的，一種是膨脹型的。兩都在蝕刻效果上沒有什么區(qū)別，只是在剝離清洗過程中，溶解型的阻蝕油墨不需要強堿，對一些對堿濃度比較敏感的產(chǎn)品更適合，它的缺點是，為了提高油墨絲印的性能，添加了一些填料在油墨中以增加油墨粘度和定型能力，這些填料，會在剝離溶解過程中，因附壁效應(yīng)，依附殘留在產(chǎn)品表面，比較難以清洗干凈。這些缺點，在膨脹型的油墨中則不會出現(xiàn)，但膨脹型油墨在剝離時，對堿的濃度要求較高，并且剝離后的油墨呈片狀，在剝離設(shè)備的堿液循環(huán)系統(tǒng)中，要有相應(yīng)的過濾和隔離措施，以免阻塞管路和重復(fù)污染產(chǎn)品。

       阻蝕油墨的關(guān)鍵參數(shù)是針孔度和粘度，由于一般都是制作線寬線距0.08mm以上的產(chǎn)品，一般的針孔度都能達到要求，所以在實際生產(chǎn)過程，主要關(guān)注的是粘度變化。

       3、光刻膠工藝

       化學(xué)蝕刻方法在線寬線距要求在0.07mm以下的產(chǎn)品生產(chǎn)過程中，上面的兩種方式就很難達到要求了，這時就需要一種更為精細的第三種化學(xué)蝕刻方式，光刻膠化學(xué)蝕刻。

       光刻膠又稱光致抗蝕劑，由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)適當(dāng)?shù)娜軇┨幚?，溶去可溶性部分，得到所需圖像。光刻膠廣泛用于印刷電路和集成電路的制造以及印刷制版等過程。光刻膠的技術(shù)復(fù)雜，品種較多。根據(jù)其化學(xué)反應(yīng)機理和顯影原理，可分負性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負性膠；反之，對某些溶劑是不可溶的，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。利用這種性能，將光刻膠作涂層，就能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。基于感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)，光刻膠可以分為三種類型。①光聚合型，采用烯類單體，在光作用下生成自由基，自由基再進一步引發(fā)單體聚合，最后生成聚合物，具有形成正像的特點。②光分解型，采用含有疊氮醌類化合物的材料，經(jīng)光照后,會發(fā)生光分解反應(yīng),由油溶性變?yōu)樗苄?，可以制成正性膠。③光交聯(lián)型，采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,其分子中的雙鍵被打開，并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián)，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而起到抗蝕作用，這是一種典型的負性光刻膠?？逻_公司的產(chǎn)品KPR膠即屬此類。