不同于數位晶片、隨機存取記憶體(RAM)均須倚賴奈米先進製程，才能提高邏輯密度及運算效能，同時減輕功耗、尺寸及生產成本；PMIC等各種類比晶片對電晶體密度的要求則較低，反而著重在晶圓后段導線製作或深溝層隔離(Deep Trench Isolation, DTI)等技術，以改善導通電阻(RDS(ON))及各種操作特性，因此主流製程仍停留在0.18微米以上，晶圓尺寸也還在用六吋、八吋方桉，每2年晶片體積微縮比率僅有10～25%。 

    然而，楊登棠分析，目前行動裝置PMIC內部至少都有二十到五十個功能區(qū)塊，且接腳數超過兩百個；加上晶片商正致力研發(fā)類比/數位異質晶片整合型PMIC，而新增的MCU、DSP、雜訊消除IC等數位核心一定要以先進製程來做才能發(fā)揮經濟效益，在PMIC整合度不斷翻升之下，朝奈米製程演進的需求已開始涌現。同時，相關大廠考量先進製程成本較高，更研擬在2～3年內全面改搭12吋晶圓生產，將晶片產出數量提升兩倍以上，進而縮減10%左右的量產成本。 

    據悉，Dialog最新PMIC已整合多顆整流器(Regulator)、低壓差線性穩(wěn)壓器(LDO)、通用序列匯流排(USB)介面、立體聲音訊編碼器(Audio Codec)和其他驅動IC，足見異質整合PMIC設計熱潮已開始在業(yè)界發(fā)酵。 

    因應新世代PMIC製作需求，楊登棠透露，聯電將部署0.11微米、65/55奈米BCD(Bipolar-CMOS-DMOS)等多元製程。其中，0.11微米方桉已開始試產，今年底將正式上線，該公司旗下七個八吋晶圓廠將有五個支援此製程節(jié)點，至于65/55奈米BCD方桉則是未來主攻重點，將持續(xù)加碼投資。此外，聯電近期還與一家晶片廠攜手合作90奈米客製化PMIC製程，并已進入測試階段。 

    拓墣產業(yè)研究所半導體中心研究員許漢州補充，從臺積電、聯電和格羅方德(GLOBALFOUNDRIES)等晶圓代工大廠的角度來看，行動裝置或更前瞻的穿戴式電子產品基于尺寸、電容量和成本限制，除刺激應用處理器、通訊處理器加速整合外，亦將驅動PMIC成為系統(tǒng)另一個關鍵核心，逐步整併其他控制IC或數位硅智財(IP)，以實現輕薄、低功耗的高整合設計架構。