我們知道，在半導(dǎo)體制造過程中，最復(fù)雜也是最難的步驟就是光刻，成本能占到整個(gè)生產(chǎn)過程的1/3，因此，光刻機(jī)成為最重要的半導(dǎo)體制造裝備。目前，全球最先進(jìn)的光刻機(jī)就是荷蘭ASML公司生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)，每臺(tái)售價(jià)超過1億美元，而且供不應(yīng)求。這就是EUV光刻機(jī)如此重要的原因了！
2019年，臺(tái)積電、三星開始量產(chǎn)7nm EUV工藝產(chǎn)品。而到2020年，5nm開始量產(chǎn)，EUV光刻機(jī)或許又面臨一次升級(jí)。
據(jù)驅(qū)動(dòng)之家報(bào)道，掌握全球唯一EUV光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財(cái)報(bào)，當(dāng)季營收25.68億歐元，其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元，總計(jì)出貨了41臺(tái)光刻機(jī)，其中EUV光刻機(jī)7臺(tái)。
在Q2季度中，ASML公司獲得了10臺(tái)EUV光刻機(jī)訂單，而且這些訂單不只是用于邏輯半導(dǎo)體工藝，還首次用于存儲(chǔ)芯片——在此之前，三星表示將在未來的內(nèi)存芯片生產(chǎn)中使用EUV光刻機(jī)，ASML的存儲(chǔ)芯片訂單應(yīng)該是來自三星了。
對(duì)于EUV光刻機(jī)，目前最主要的問題還是產(chǎn)能不足，ASML現(xiàn)在出售的光刻機(jī)型號(hào)是NXE:3400B，每小時(shí)晶圓產(chǎn)能是150到155wph，不過Q2季度中ASML已經(jīng)升級(jí)到了NXE:3400C型號(hào)，產(chǎn)能提升到了170wph，已經(jīng)有客戶做到了每天生產(chǎn)2000片晶圓的水平了。
根據(jù)ASML的路線圖，未來EUV光刻機(jī)的產(chǎn)品還會(huì)再有一次提升，每小時(shí)晶圓產(chǎn)能最終將達(dá)到185wph，不過要等到2021到2022年了。
與現(xiàn)有的光刻機(jī)相比，第二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA（高數(shù)值孔徑）透鏡，而通過提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大光刻機(jī)核心指標(biāo)提升70%，達(dá)到業(yè)界對(duì)幾何式芯片微縮的要求。
而據(jù)之前ASML公司公布消息顯示，ASML新一代EUV光刻機(jī)的量產(chǎn)時(shí)間是2024年，盡管最新的報(bào)道稱下一代EUV光刻機(jī)2025年量產(chǎn)，但相比現(xiàn)在的EUV光刻機(jī)僅能量產(chǎn)7nm產(chǎn)品的情況下，已經(jīng)是劃時(shí)代的進(jìn)步了。消息顯示，在第二代EUV光刻機(jī)真正出現(xiàn)時(shí)，臺(tái)積電、三星已經(jīng)量產(chǎn)3nm工藝，甚至開始進(jìn)軍2nm、1nm產(chǎn)品階段了。
01月07日 18:14
