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5nm、7nm新工藝受寵 硅光技術(shù)將邁向主流應(yīng)用

目前,臺(tái)積電7nm制程訂單目前滿載,市場(chǎng)供不應(yīng)求,5nm制程還未大規(guī)模量產(chǎn),已經(jīng)遭到蘋果、海思、超微等廠商哄搶。未來(lái),半導(dǎo)體新工藝的發(fā)展前景如何?會(huì)在哪些領(lǐng)域發(fā)揮越來(lái)越重要的作用?
   進(jìn)入21世紀(jì)以來(lái),摩爾定律的失效大限日益臨近,人工智能、5G、自動(dòng)駕駛等新應(yīng)用的興起,對(duì)芯片性能提出了更高的要求,同時(shí)也推動(dòng)了半導(dǎo)體制造工藝和新材料不斷創(chuàng)新,工藝節(jié)點(diǎn)從28nm到10nm只經(jīng)過(guò)了短短的五年,每一代新工藝都會(huì)給芯片帶來(lái)升級(jí),同時(shí)加持新工藝的產(chǎn)品也會(huì)受到用戶青睞。
 
  華為海思的麒麟990 5G采用了臺(tái)積電的7nm EUV,AMD今年通過(guò)與臺(tái)積電7納米合作,旗下CPU和GPU銷量大漲,原本對(duì)7nm沒(méi)有興趣的英偉達(dá)也在迅速跟進(jìn),AMD也追隨臺(tái)積電的步伐,下單5nm EUV,賽靈思持續(xù)向5nm推進(jìn)。目前,臺(tái)積電7nm制程訂單目前滿載,市場(chǎng)供不應(yīng)求,5nm制程還未大規(guī)模量產(chǎn),已經(jīng)遭到蘋果、海思、超微等廠商哄搶。
 
  未來(lái),半導(dǎo)體新工藝的發(fā)展前景如何?會(huì)在哪些領(lǐng)域發(fā)揮越來(lái)越重要的作用?
 
  針對(duì)以上問(wèn)題,與非網(wǎng)開展了新一期專題《超摩爾時(shí)代的半導(dǎo)體工藝、材料創(chuàng)新》,本次訪談,與非網(wǎng)特邀Cadence公司產(chǎn)品管理總監(jiān)Jeremiah Cessna參加了討論。
 
  超摩爾時(shí)代,異構(gòu)集成給芯片設(shè)計(jì)帶來(lái)新挑戰(zhàn)
 
  隨著摩爾定律失效的大限日益臨近,我們即將迎來(lái)超摩爾時(shí)代。為了滿足5G、IoT、汽車等復(fù)雜應(yīng)用的需求,模擬、RF和混合信號(hào)設(shè)計(jì)必須支持不同的基板技術(shù),且與多IC環(huán)境集成。Cadence專注于開發(fā)符合異構(gòu)器件需求的集成和分析解決方案,幫助設(shè)計(jì)師實(shí)現(xiàn)單芯片IC(SoC)方案無(wú)法達(dá)成的性能目標(biāo)。但與此同時(shí),異構(gòu)集成也給芯片設(shè)計(jì)帶來(lái)了全新的挑戰(zhàn)。
 
  設(shè)計(jì)復(fù)雜異構(gòu)系統(tǒng)最大的挑戰(zhàn)是,設(shè)計(jì)師需要擺脫“傳統(tǒng)芯片設(shè)計(jì)”的思維模式。設(shè)計(jì)師不能像過(guò)去一樣只關(guān)注單一模塊或IC,而是要將采用不同工藝技術(shù)的多IC集成封裝視為常態(tài);且必須綜合考慮設(shè)計(jì)層次,才能滿足系統(tǒng)的功耗和性能目標(biāo)。復(fù)雜的設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)之外,散熱和信號(hào)集成也愈發(fā)成為復(fù)雜異構(gòu)系統(tǒng)設(shè)計(jì)的重要挑戰(zhàn)。
 
  工藝節(jié)點(diǎn)迅速向更低延伸,提高生產(chǎn)力是王道
 
  半導(dǎo)體制造工藝發(fā)展迅速,從28nm到7nm只用了5年時(shí)間,而7nm還未成為主流,5nm馬上就要量產(chǎn),業(yè)界一直在預(yù)估工藝節(jié)點(diǎn)未來(lái)的走向,哪種工藝節(jié)點(diǎn)會(huì)成為未來(lái)的主流。Jeremiah Cessna表示,采用現(xiàn)有工藝節(jié)點(diǎn)的客戶需求依舊強(qiáng)勁。究竟未來(lái)哪種節(jié)點(diǎn)會(huì)成為主流,現(xiàn)在斷言還為之過(guò)早,不同的工藝節(jié)點(diǎn)都擁有獨(dú)特的價(jià)值定位,在市場(chǎng)上也都會(huì)占有一席之地。Cadence將一如既往地為所有主流代工廠采用的工藝節(jié)點(diǎn)提供支持。
 
  半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm節(jié)點(diǎn)后,前段與后段制程皆將面臨更嚴(yán)峻的挑戰(zhàn),代工廠和客戶對(duì)尖端工藝節(jié)點(diǎn)的首要訴求是提高設(shè)計(jì)生產(chǎn)力。先進(jìn)節(jié)點(diǎn)的推進(jìn)也為設(shè)計(jì)的復(fù)雜性帶來(lái)幾何倍數(shù)上升,對(duì)設(shè)計(jì)能力的需求也快速更迭。設(shè)計(jì)產(chǎn)能畢竟是有限的,我們能做的只有利用一切可用資源,提高生產(chǎn)效率。
 
  Jeremiah Cessna認(rèn)為,7nm節(jié)點(diǎn)時(shí)代,很多老牌傳統(tǒng)設(shè)計(jì)廠商都積極開發(fā)新的工作流程和方法論,力圖提高整體設(shè)計(jì)效率??蛻簟⒋S與Cadence的合作讓生產(chǎn)力的提高成為可能。
 
  硅光技術(shù)將從實(shí)驗(yàn)室邁向主流應(yīng)用
 
  除了前段和后段制程帶來(lái)的挑戰(zhàn),5nm工藝的成本也會(huì)大幅度提升,一般芯片公司難以承受,這被視作大規(guī)模應(yīng)用的障礙,業(yè)界也在尋找5nm能夠大規(guī)模應(yīng)用的領(lǐng)域。Jeremiah Cessna介紹,2011年,我們剛開始支持finFET工藝,業(yè)界對(duì)其工藝復(fù)雜性、設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的成本,以及價(jià)值定位等問(wèn)題普遍有所擔(dān)憂;但我們所做的一切努力都是為了推動(dòng)技術(shù)與行業(yè)的進(jìn)步,而不是與技術(shù)的發(fā)展背道而馳。整體來(lái)講,半導(dǎo)體行業(yè)一直都在克服挑戰(zhàn),隨著高性能IC的發(fā)展不斷提高標(biāo)準(zhǔn),并推動(dòng)市場(chǎng)成長(zhǎng)。
 
  接下來(lái)幾年,基于硅片的光電技術(shù)將被傳統(tǒng)的電子系統(tǒng)設(shè)計(jì)所采納。Jeremiah Cessna相信,硅光技術(shù)將從實(shí)驗(yàn)室快速走向主流應(yīng)用,提高性能,降低功耗,并在多個(gè)行業(yè)擁有一席之地。
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